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全自动晶片清洗设备 -Automatic Cleaning System -

全自动晶片清洗设备是对完成切割作业后的晶片、玻璃基板及陶瓷等加工物实施清洗作业的设备。在该设备上可设定清洗、漂洗(选配项目)、干燥等各种功能。还能与半自动切割机组合使用。

  DCS141 DCS1440 DCS1460

DCS1440
DCS1460
规 格
适用加工物尺寸 φ8" φ8"/边长为250
mm方形
φ300mm/边长为310 mm方形
最大适用框架尺寸 2-5, 2-6, 2-8 2-5, 2-5-1*, 2-6, 2-6-1, 2-8-1 2-5, 2-5-1*, 2-6, 2-6-1, 2-8-1, 2-12, 2-12-1
清洗方法 高压清洗规格 高压清洗规格,水及压缩空气的混合清洗规格*
工作台转数(min-1[rpm]) 0 - 3,000 100 - 3,000
清洗器排出压力(MPa) 2.0 - 12.0 2.0 - 11.8
设备尺寸(WxDxH)
(mm)
400 x 719 x 1,220
(不含突出物)
400 x 600 x 1,220
(不含突出物及高128mm的触摸式显示屏)
500 x 650 x 1,220
(不含突出物及高128mm的触摸式显示屏)
设备重量(kg) 约150 (有变压器: 约170) 约130 (有变压器: 约164) 约150 (有变压器: 约184)
特 点 该设备在设计上采用了与DAD300系列相同的设计理念、既操作简便,又能节省占地面积。 可以增加双臂清洗等选配项目,进一步提高清洗能力。在设计上尽量考虑绿色环保及RoHS指令。
* 选配项目
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