以Cassette to Cassette的方式來實現CMP加工的全自動機型。且配備有清洗區,能夠自動對加工後的晶圓進行洗淨與乾燥。
適用於藍寶石,SiC,LT,LN等材料的CMP加工。
可實現晶圓單獨搬送、基板(Substrate)搬送,鐵圈(Frame)搬送。
| Specification | Unit | ||
|---|---|---|---|
| Supported workpiece size | - | Φ8 inch | |
| Polishing method | - | CMP | |
| Polishing wheel | - | Φ300 mm CMP pad | |
| Spindle | Rated output | kW | 7.5 | Rotation speed range | min‐1 | 500 ~ 2,000 |
| Equipment dimensions (W x D x H) | mm | 900 x 2,584 x 2,000 | |
| Equipment weight | kg | Approx.3,100 | |
※為了改善,機器的外觀,特征,規格等本公司可能在未預先通知用戶的情況下實施變更。
※機器的使用條件,請先確認標准規格書。