能對應Φ8吋以下的晶圓(Wafer)研削需求, 是2軸研削標準機型DFG8540的次世代機。不只是Si(矽), 就連SiC(碳化矽)等高硬度不易研磨/研削的材料的薄化也可對應。
提供高扭矩的主軸(Spindle)作為選擇方案,可以提升對於多種材料的加工對應能力,亦可進行各種構造改良,對應會影響厚度參差不齊的晶圓形狀調整、晶圓的搬運・清潔等作業,實現高品質加工。
透過電動微調軸,除了可以實現在畫面上進行高精度的晶圓形狀調整之外,利用攝影機的非接觸式定位功能可減少與晶圓的接觸,二流體清洗的功能可實現高潔淨度。
透過搭載新GUI・控制系統提供更符合直覺的畫面操作體驗。此外也追加了同一個晶圓盒(Cassette)内每片晶圓選擇不同Recipe、膠布貼合異常檢測、晶圓斜插及空格檢測等, 有助於提升易用性的功能。
透過設計最佳化及Vacuum Unit内藏化, 平面占用面積相較於以往機型減少了15%, 此外因為使用了新的Air Spindle, 使氣體消耗量減少了50%。
| Specification | Unit | ||
|---|---|---|---|
| Supported workpiece size | - |
Φ8 inch When using universal chuck table: Φ4, 5, 6, 8 inches |
|
| Grinding method | - | In-feed grinding with workpiece rotation | |
| Grinding wheel | - | Φ200 mm diamond wheel | |
| Spindle | Rated torque | N・m | 5.7 |
| Rated output | kW | 4.2 | |
| Rotation speed range | min‐1 | 1,000 - 7,000 | |
| Equipment dimensions (W x D x H) | mm | 1,100 × 2,800 × 1,800 | |
| Equipment weight | kg | Approx.3,000 | |
| Equipment type |
| Spindle |
| C/T |
| Dimensions(W × D × H) |
| Weight(kg) |